微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较

微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较


来五星,轩建平,史铁林,杨叔子


(华中科技大学微系统中心,武汉 430074)




摘要:在MEMS 微加工和实验过程过程中,出于制造成本、光刻胶性能的考虑,需要选用合适的光刻胶。本文介绍了常用的正性胶和负性胶以及其曝光、显影的过程,正性胶和负性胶曝光过程漫射的图形缺陷。比较了正性胶和负性胶的各种性能以及各种光刻方式下选用的正负性胶及它们的光刻灵敏度,为微加工过程和实验操作提供指导。

关键词:MEMS;微制造;光刻胶;工艺

中图分类号:TN305.7 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2004)11-0022-04


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  • ly542215 (2010-1-14 21:05:16)

  • ly542215 (2010-1-14 21:06:26)

    谢谢楼主怎么下不了
  • anndi (2010-1-14 21:13:04)

    您的金钱不足,请参看http://www.r4e.cn/bbs/thread-4339-1-1.html
  • andyxiao (2010-1-15 10:48:27)

    怎么下载不下来啊。。。。。。。。。。。。
  • wyzpa (2010-4-12 10:13:50)

    想看看
  • linjunespn (2010-11-17 09:25:16)

    多谢分享    多多益善
  • axispace (2011-12-14 11:00:24)

    谢谢,下载下来学习下
  • axispace (2011-12-14 11:00:55)

    谢谢,下载下来学习下