光刻胶水

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帖子列表

  • anndi 光刻基本知识介绍

    发表于: 2007-05-17 回复: 4

    光刻基本知识介绍 (Optical Lithography) 隨著科技的進步,微電子工業的製造技術一日千里,其中微影技術扮演著最重要的角色之一。 只要關於圖形上的定義. ...全文

  • anndi 光刻胶性能

    发表于: 2007-05-17 回复: 4

    光刻胶性能 1 引言   光刻加工工艺中为了图形转移,辐照必须作用在光刻胶上,通过改变光刻胶材料的性质,使得在完成光刻工艺后,光刻版图形被复制在圆片的表面。. ...全文

  • anndi 光刻工艺的实施

    发表于: 2007-05-17 回复: 9

    光刻工艺的实施: 光刻掩膜版+光刻胶+待刻蚀基片 1. 关于光刻掩膜版: 乳胶膜 光学玻璃+上表层遮光膜 铬膜 氧化铁膜 黑色或近似黑色 全文下载附件查. ...全文

  • anndi 光刻工艺基础知识

    发表于: 2007-05-17 回复: 6

    光刻工艺基础知识 PHOTO   PHOTO 流程?   答:上光阻→曝光→顯影→顯影後檢查→CD量測→Overlay量測   何为光阻?其功能为何?其分为哪两种?   答:. ...全文

  • anndi 微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较

    发表于: 2007-05-17 回复: 2

    微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较来五星,轩建平,史铁林,杨叔子(华中科技大学微系统中心,武汉 430074) 摘要:在MEMS微加工和实验过程过程中,出于制造成本、光刻. ...全文

  • anndi 浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能

    发表于: 2007-04-08 回复: 4

    摘 要:光刻胶技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。主要围绕光刻胶在集成电路制造中的应. ...全文

  • anndi 化学放大胶在电子束光刻技术中的应用

    发表于: 2007-04-08 回复: 2

    摘要:化学放大胶(Chemically Amplified Resists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质。介绍了化学放大胶在电子束光刻技术中图形制作工艺的关键. ...全文

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